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真空烘烤除氣裝置

作者:華宇分公司時(shí)間:2022-12-23點(diǎn)擊:7551次

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該設備與大型微波源對接,可以完成微波在空間不同高度環(huán)境中相關(guān)實(shí)驗??梢詫?shí)現某一高度、不同濕度、不同溫度下的環(huán)境模擬實(shí)驗。依據這套設備組建成了我國第一個(gè)HPM大氣等離子體實(shí)驗室。


產(chǎn)品參數

序號

項目

技術(shù)參數

1

真空容器尺寸

Φ1800mm×2700mm(L)

2

真空度

1×105Pa~1×10-2 Pa

3

溫度范圍

熱沉溫度在-60℃~40℃范圍內可調,控制點(diǎn)

4

控制精度

±1

5

濕度指標

在15℃~40℃范圍內,壓力從2000 Pa~大氣壓,水蒸汽在此壓力范圍內分壓控制精確優(yōu)于±10%



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